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螺旋硅钼棒

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硅碳棒在不同气氛下的反应与解决办法
发布日期:2014-07-23 22:58
气氛 炉温(度) 表面负荷(W/cm2) 对元件的影响 解救、决办法
氨 1300 3.8 与碳化硅作用会生成甲烷,减少保护膜 露点激活
二氧化碳 1450 3.1 会侵蚀碳化硅 可以用石英或刚玉管保护
18%一氧化碳 1500 4.0 无影响  
20%一氧化碳 1360 3.8 会吸附碳粒影响保护膜 用石英,刚玉或锆保护管加以保护
卤素 700 3.8 会侵蚀碳化硅减少保护膜的生成 用石英管保护
碳氢化合物 1300 3.1 会吸附碳粒而导致热污染 可以送进充分的空气
氢 1290 3.1 会与碳化硅反应生成甲烷,减少保护膜 露点激活
甲烷 1370 3.1 会吸附碳粒导致热污染 用刚玉或锆管加以保护
氮 1370 3.1 会与碳化硅发生反应形成氮化硅绝缘层 用刚玉或锆质管保护
钠 1300 3.8 会侵蚀碳化硅 可以用石英,刚玉管保护
二氧化硫 1310 3.8 会侵蚀碳化硅 可以用石英,锆质管或刚玉管保护
真空     无法生成保护膜  
氧 1300 3.8 会加快碳化硅的氧化 用保护管对元件加以保护
水分(不同含量) 1000-1370 3.1-3.6 会与碳化硅反应生成硅的水化物 用保护管加以保护

 

 
 

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